洛陽ハイパーソリッド金属技術有限公司の公式ウェブサイトへようこそ。

モリブデン スパッタリングターゲットの説明

電子機器産業において、モリブデンスパッタリングターゲットは主にフラットパネルディスプレイ、薄膜太陽電池の電極および配線材料、ならびに半導体のバリア層材料として使用されます。これらは、モリブデンの高い融点、高い電気伝導率、低い比抵抗、優れた耐食性および良好な環境特性に基づいています。

パラメーター

製造範囲(モリブデン回転スパッタリングターゲット)

OD(mm) ID(mm) 長さ(mm) カスタムメイド
Φ140~180mm Φ125~Φ135mm 100~3300

製造範囲(モリブデン平面スパッタリングターゲット)

長方形 長さ(mm) 幅(mm) 厚さ(mm) カスタムメイド
10 - 3000 10 - 800 1.0 - 50.8
円形 直径(mm)   厚さ(mm)
10 - 1000   1.0 - 100

仕様

材料 モリブデン 形状: プレート
純粋さ 99.5% 密度: 10.2g/cm³
シルバー 標準: ASTM B386
サイズ カスタマイズされた 表面: 明るい
ハイライト

99.95% モリブデンスパッタリングターゲット

モリブデンスパッタリングターゲット 10.2g/cm³

モリブデン板 10.2g/cm³

構成 モー(モ1、TZM)
純粋さ ≥99.95%
密度 10.2g/cm³
粒径 ≤100µm²または要望に応じて
粗さ Ra≤0.4μm
平面度の公差 <4μm

注記:すべての仕様はお客様のご要望に応じてカスタマイズ可能です。

原子番号 42
CAS番号 7439-98-7
原子質量 95.94 [g/mol]
融点 2620 ℃
沸点 4639 °C
20℃における密度 10.22 [g/cm³]
結晶構造 体心立方
20℃における線膨張係数 5.2 × 10 -6 [m/(mK)]
20℃における熱伝導率 142 [W/(mK)]
20℃における比熱 0.25 [J/(gK)]
20℃における電気伝導率 17.9 × 10 6 [S/m]
20℃における比電気抵抗 0.056 [Ωmm] 2 )/m]

アプリケーション

薄膜太陽光発電産業、太陽電池、表面工学

タッチコントロール産業、フラットパネルディスプレイ

半導体産業、マイクロエレクトロニクス、自動車用ライトおよび装飾コーティング、

コーティングガラス産業(建築用ガラス、自動車用ガラス、光学ガラスおよびその他のフィルムを含む)など。

キーワード

モリブデン製スパッタリングターゲット

薄膜太陽光発電産業、太陽電池、表面工学。


お見積りを取得する

注:ご連絡先情報をご記入ください。弊社の専門スタッフが早急にご連絡いたします!

送信する